报告题目：基于约束刻蚀原理的电化学微纳加工技术：原理、方法和仪器
报 告 人：詹东平 教授(厦门大学化学化工学院化学系)
报告时间：2021年5月29日（星期六）下午4：00
报告地点：新能源大楼附楼102会议室
报告人简介：
詹东平，1972年生，厦门大学化学化工学院教授、博士生导师，固体表面物理化学国家重点实验室固定研究员，教育部电化学技术教育部工程研究中心副主任，电化学科学与技术研究所所长。2002年武汉大学博士毕业，2004-2009年先后在北京大学、德州大学奥斯汀分校和纽约市立大学皇后学院从事博士后研究，2009年入职厦门大学， 2011年获福建省杰出青年科学基金资助，2012年入选教育部新世纪优秀人才支持计划。2018年起担任《Science China Chemistry》、《中国科学：化学》和《电化学》学术期刊编委。
从事微纳尺度电化学基础研究，主要研究方向包括：微纳尺度电极过程动力学、电化学微纳制造技术、电化学仪器和装备。主持/完成包括国家基金委重大科学仪器项目、重大研究计划集成项目子课题等多项国家级重要科研项目，在包括Chem. Soc. Rev., Acc. Chem. Res.、J. Am. Chem. Soc.、Angew. Chem.Int. Ed.、Chem. Sci.和Sci. China Chem.等在内的国际学术刊物发表研究论文90余篇，获得国家授权发明专利11项。
报告摘要：
微纳制造技术是当今高科技产业的核心关键技术。电化学微纳制造无工具磨损，无残余应力，具备加工特殊结构的能力，工艺简单，成本低，效率高，在微纳制造领域具有不可替代的地位。约束刻蚀剂层技术是田昭武院士在1990年代初提出的具有自主知识产权的电化学微纳加工技术，通过一个随后的均相化学反应将电化学生成的刻蚀剂的扩散距离约束在微纳米尺度，从而实现了微纳米的加工精度，开辟了厦门大学电化学微纳加工学科方向。近年来，课题组在学习、传承和提高约束刻蚀剂层技术水平的同时，发扬“约束刻蚀”理念，提出了基于接触电势诱导腐蚀原理的电化学纳米压印技术和光电效应诱导腐蚀原理的电化学全息光刻技术。本报告将汇报课题组在电化学微纳加工技术原理、方法和仪器设备方面的最近进展。